2025/12/04(木) 12:30-14:30 セミナー X-07

（12/4）真空と薄膜の基本技術講座「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」

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開催概要
開催時刻 2025年12月04日(木) 12:30~14:30
タイトル （12/4）真空と薄膜の基本技術講座「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
会場 南ホール商談室(3) （定員 28 名）
展示会名 VACUUM真空展
無料/有料 有料
聴講料 6000 円

Speaker

スピーカー

キヤノンアネルバ（株）
取締役　最高技術責任者 恒川　孝二氏

半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製の基本技術が学べます

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。 全4回の本講座は、成膜時の真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的に不可欠な真空蒸着やスパッタリングに関する成膜法の基本を、各分野の専門家が解説する魅力的な内容です。