2025/12/04(木) 15:00-17:00 セミナー X-08

(12/4)真空と薄膜の基本技術講座「超高真空技術」

Outline

開催概要
開催時刻 2025年12月04日(木) 15:00~17:00
タイトル (12/4)真空と薄膜の基本技術講座「超高真空技術」
会場 南ホール商談室(3) (定員 28 名)
展示会名 VACUUM真空展
無料/有料 有料
聴講料 6000 円

Speaker

スピーカー

日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター
研究副主幹
山川 紘一郎

半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製の基本技術が学べます

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。 全4回の本講座は、成膜時の真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的に不可欠な真空蒸着やスパッタリングに関する成膜法の基本を、各分野の専門家が解説する魅力的な内容です。