めっきに代表される表面処理技術は、産業において機能の向上や環境負荷の低下に寄与しており、なくてはならない存在です。
関東学院大学材料と千葉工業大学は、さまざまな分野での表面処理技術の開発を行っています。
本セミナーでは、最新の表面処理技術を紹介するとともに、各界で今後注目されるであろう技術の将来展望も述べます。

-----プログラム-----
【環境調和型の前処理を用いたパターンめっき技術】
時間：15:40-16:00
講演者：　関東学院大学　工学博士　理工学部　講師　堀内義夫先生
講演内容：　UVをマスクパターンを通して樹脂表面に照射する大気UV処理法により、選択的に改質が可能となり、必要な領域にマイクロメートルオーダーでの微細めっきする手法

【オゾンファインバブルによる環境対応型最新処理技術】
時間：16:00-16:20
講演者：関東学院大学　理工学部　理工学科　表面工学コース　教授　田代雄彦先生
講演内容：オゾンとファインバブルを用いた環境対応型の最新技術のご紹介。各種電気めっき液の活性炭処理代替技術やプリント基板のデスミア処理代替、銅のマイルドエッチングへの活用など。

【薄膜・ドライプロセスの最新動向】
時間：16:20-16:40
講演者：千葉工業大学　博士（工学）　工学部教授　坂本幸弘先生　
講演内容：ドライプロセスを中心とした表面工学に関して、当研究室で行ってきたダイヤモンドや窒化炭素といった新奇材料の創成、窒化や浸炭といった表面改質、スパッタリングによる機能性薄膜の作製プロセスを中心に、最近の動向について概説する。

【プラズマCVDによるフッ素を含まない透明超はっ水薄膜の形成】
時間：16:40-17:00
講演者：工学博士　（一社）表面・超原子先端材料工学研究所・所長　高井治先生
講演内容：水滴接触角がほぼゼロから160°を超える表面を、コーティングにより制御する方法を研究してきた。水滴接触角がおよそ150°より大きな場合を超はっ水と呼んでいる。本講演では、フッ素を含まない有機シリコン化合物を原料にして、プラズマCVDにより非フッ素・酸化シリコン系の透明超はっ水薄膜の形成法について解説する。