09/20(金) 15:00-17:00 セミナー R-04a

(9/20) 真空と薄膜の基本技術講座「超高真空技術」

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開催概要

開催時刻	2024年09月20日(金) 15:00~17:00
タイトル	(9/20) 真空と薄膜の基本技術講座「超高真空技術」
出演会社
会場	東ホール2階東5-商談室(4)
展示会名	VACUUM真空展
無料/有料	有料
聴講料	6000 円

Speaker

スピーカー

（国研）日本原子力研究開発機構
先端基礎研究センター研究副主幹山川紘一郎氏

半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製技術やプロセスの基本技術が学べます

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。本講座では薄膜作製に使われる真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的にも重要な成膜法である真空蒸着やスパッタリングについて解説します。また、デバイス製造へ実用化されているプラズマプロセス技術についても解説します。全4回の講座は、専門に特化した別々の魅力的な内容となっています。

一般…6,000円／学生…1,500円[資料代・消費税込み]
※領収書は当日セミナー会場受付にて発行いたします。
※当日、会場前受付での参加申し込みも受け付けます。お支払いは現金払いのみになります。

≪その他3回の講座はこちら≫
19日（木）開催「真空蒸着法、有機EL製造技術～真空の”質”：その重要性と影響～」
　https://autumnfair.nikkan.co.jp/webinar/detail/908
19日（木）開催「スパッタ薄膜の組成及び構造制御」
　https://autumnfair.nikkan.co.jp/webinar/detail/909
20日（金）開催「サブナノメートル半導体デバイス製造にむけたプラズマプロセス技術」
　https://autumnfair.nikkan.co.jp/webinar/detail/912